SUN-2100N適用于功率器件制造過程中保護鋁等金屬基底。功率器件制造過程中需要腐蝕鋁等金屬薄層，傳統工藝中使用二甲苯光刻膠。這類光刻膠不僅有毒性，而且在使用過程中產生大量有機廢液。石油醚閃點為-20 °C，被用做顯影液，存在燃爆風險。濃硝酸通常被用來剝離KTFR，是一個安全隱患。SUN-2100N由星泰克自主創新發明，完全無毒，可以有效保護鋁等金屬基底。SUN-2100N使用標準TMAH（2.38%）顯影，純水定影，既環保又安全。有機溶劑取代濃硝酸剝離光刻膠。